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v1)光致抗蚀剂:用光化学方法获得的,能抵抗住某种蚀刻液或电镀溶液浸蚀
的感光材料。
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2)正性光致抗蚀剂:光照射部分分解(或软化),曝光显影之后,厚膜电路电阻,能把生产用照相底版上透
明 的部分从板面上除去。
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3)负性光致抗蚀剂:光照射部分聚合(或交联),曝光显影之后,能把生产用照相底版上透
明的部分保留在板面上。
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4)光致抗蚀剂的分类:
按用途分为耐蚀刻抗蚀剂和耐电镀抗蚀剂。网络排阻,油表厚膜电路,印刷,电子尺电阻板,厚膜电容,喷码机专用不锈钢加热片,湿敏电阻片,叉车踏板传感器电阻片,河北厚膜电路,单列直插式网络排容,高压厚膜电路,FR4 电阻板, 无接触式电阻传感器,印刷加工,厚膜芯片.游戏机控制开关
按显影类型分为全水溶性抗蚀剂、半水溶性抗蚀剂和溶剂性抗蚀剂。
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按物理状态分为液体抗蚀剂和干膜抗蚀剂
按感光类型分为正性抗蚀剂和负性抗蚀剂。
(2) 电位器'>电位器的阻值变化特性
阻值变化特性是指电位器'>电位器的阻值随活动触点移动的长度或转轴转动的角度变化的关系,即阻值输出函数特性。常用的阻值变化特性有3种,如图2所示。
图2 电位器'>电位器阻值变化曲线
直线式(X型):随着动角点位置的变化,其阻值的变化接近直线。
指数式(Z型):电位器'>电位器阻值的变化与动角点位置的变化成指数关系。
①直线式电位器'>电位器的阻值变化与旋转角度成直线关系。当电阻体上的导电物质分布均匀时,单位长度的阻值大致相等。它适用于要求调节均匀的场合(如分压器)。
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